対象特許データベース：ＴＷ、ＣＮ、ＵＳ、ＪＰ、ＥＰ、ＰＣＴ
検索クエリ：(晶圓 OR 晶圆 OR Wafer OR ウェーハ OR ウェハ) AND (清潔 OR 清洗 OR 濕製程 OR Cleaning OR Washer OR 洗浄 OR クリーニング OR 洗浄) AND (系統 OR 設備 OR system OR equipment OR device OR tool OR 装置 OR 機)
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検索クエリ：(晶圓 OR 晶圆 OR Wafer OR ウェーハ OR ウェハ) AND (清潔 OR 清洗 OR 濕製程 OR Cleaning OR Washer OR 洗浄 OR クリーニング OR 洗浄) AND (系統 OR 設備 OR system OR equipment OR device OR tool OR 装置 OR 機)